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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：等離子加強(qiáng)化學(xué)沉積PECVD鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號(hào)：TN-PECVD-450
  • 產(chǎn)品廠商：泰諾
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡(jiǎn)單介紹：
等離子加強(qiáng)化學(xué)沉積PECVD鍍膜儀能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度，等離子加強(qiáng)化學(xué)沉積PECVD鍍膜儀適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽(yáng)電池器件
詳情介紹：
TN-PECVD-450化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度。適用于在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽(yáng)電池器件，可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

名稱
PECVD鍍膜儀
型號(hào)
TN-PECVD-450
特點(diǎn)
  • 能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度
  • 適用于在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積
  • 成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽(yáng)電池器件
技術(shù)參數(shù)
  • 真空腔體    前開門式，φ300mm X 300mm 不銹鋼材質(zhì)
  • 觀察窗：φ100mm 帶擋板
  • 真空泵組    前級(jí)泵：旋片泵 抽速1.1L/s，次級(jí)泵：渦輪分子泵 抽速600L/s
  • 極限真空度    10-6Pa，三十分鐘內(nèi)可達(dá)到 10-4Pa
  • 沉積真空    0.133~133Pa，可根據(jù)工藝調(diào)整
  • 射頻電源    13.56MHz，500W，自動(dòng)匹配
  • 流量控制    質(zhì)量流量計(jì)，默認(rèn) Ar氣 0~200sccm
規(guī)格
整機(jī)尺寸    1100mm x 800mm x1100mm