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有關(guān)三靶磁控濺射的產(chǎn)品描述
日期：2025-03-10 06:32
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摘要：
三靶磁控濺射的產(chǎn)品描述：
1. 濺射室極限真空度：≤6.6×10-6 Pa
2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系統(tǒng)從大氣開(kāi)始抽氣：濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa；
4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤5Pa
5. 濺射真空室1套，立式上開(kāi)蓋結(jié)構(gòu)，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不銹鋼結(jié)構(gòu)，氬弧焊接，表面進(jìn)行電化學(xué)拋光，內(nèi)含防污內(nèi)襯，可內(nèi)烘烤到100～150℃，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封，腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)
6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套， 濺射室中配3套50mm高性能永磁共焦磁控濺射靶（濺射靶角度可調(diào)），各靶可獨(dú)立/順次/共同工作，磁控靶RF、DC、MF兼容，可以濺射磁性材料，磁控靶與基片距離可調(diào)，配備3套進(jìn)口SMC旋轉(zhuǎn)氣動(dòng)控制擋板組件；配2臺(tái)500w直流電源（不小于500W）和1臺(tái)全自動(dòng)匹配射頻電源（不小于500W）；提供3塊測(cè)試靶材。鍍膜不均勻度≤5%
7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套，樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片，具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能，旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)。基片加熱溫度：室溫—500°C連續(xù)可調(diào)，由熱電偶閉環(huán)反饋控制，加熱電源配備控溫表，控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示
8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套
9. 工作氣路1套，包含：100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路； DN16充氣閥、管路、接頭等2路；
10. 抽氣機(jī)組及閥門、管道 1套，包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源（680L/s ，德國(guó)普發(fā)Hipace700分子泵）；1臺(tái)機(jī)械泵（4L/S） ，1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥，機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套，CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)（用于復(fù)合分子泵與真空室隔離），節(jié)流閥1臺(tái)，DN40旁抽氣閥1臺(tái)，壓差式充氣閥1臺(tái)；管道采用不銹鋼三通及波紋管，
11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套，由上等方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理，機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾，四只腳輪，可固定，可移動(dòng)。
12. 真空測(cè)量系統(tǒng) 1套，濺射室采用進(jìn)口INFICON復(fù)合計(jì)進(jìn)行測(cè)量。
13. 具備對(duì)泵、靶、電極等缺水、過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。
14. 系統(tǒng)采用PLC+工控機(jī)+觸摸屏全自動(dòng)控制方式，可進(jìn)行自動(dòng)抽氣及程序設(shè)定、計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)顯示記錄真空度及加熱溫度、計(jì)算機(jī)設(shè)定顯示直流電源、射頻電源功率參數(shù)、計(jì)算機(jī)設(shè)定顯示MFC的設(shè)定控制等、計(jì)算機(jī)設(shè)定顯示當(dāng)班狀態(tài)、樣品轉(zhuǎn)速等。
15. 配備循環(huán)水機(jī)一臺(tái)、靜音空壓機(jī)一臺(tái)，專用工具（含工具箱）1套，備品備件 1套
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