雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購；所配電源為300W射頻電源加500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，射頻電源可用于非金屬膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定制直流電源和脈沖電源，各型電源均有300W到1000W多種規(guī)格可選。

鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達10E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。

另外本型號配置配有兩個高精度膜厚儀，能夠滿足鍍膜過程中膜厚檢測需要，若客戶有需要安裝多個膜厚儀的需要也可以和我公司技術人員進行定制。

本產品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。

雙靶磁控濺射鍍膜儀用途：

該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。

雙靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：

雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀）
樣品臺	尺寸	φ185mm	控溫精度	±1℃
	加熱溫度	*高500℃	轉速	1-20rpm可調
磁控濺射頭	數量	2” ×2 （1”,2”可選）	水冷機規(guī)格	10L/min流速的循環(huán)水冷機
	冷卻方式	水冷
真空腔體	腔體尺寸	φ300mm × 300mm	觀察窗口	φ100mm
	腔體材料	不銹鋼	開啟方式	上頂開式
質量流量計	2路；量程100sccm；100sccm（可根據客戶需要定制多路氣路）
真空系統(tǒng)	產品型號	TN-GZK103-A	抽氣接口	KF40
	分子泵	TN-600	排氣接口	KF16
	前極泵	旋片泵	真空測量	復合真空計
	極限真空	1.0E-5Pa	供電電源	AC;220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa
電源配置	數量	射頻電源x2	*大輸出功率	射頻電源300W
其他	供電電壓	AC220V,50Hz	整機尺寸	600mm × 650mm × 1280mm
	整機功率	2.5KW	整機重量	300kg

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