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產品詳情
簡單介紹:
雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎版)我公司自主研發的一款高性價比等離子濺射鍍膜設備,具有結構緊湊,簡單易用。雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎版)的濺射靶為2英寸的標準尺寸,標準配置2個濺射靶頭,以滿足客戶鍍不同膜的實驗需求。
詳情介紹:
TN-PSP180G-2TA 雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎版)我公司自主研發的一款高性價比等離子濺射鍍膜設備,具有結構緊湊,簡單易用,集成度高,設計感強的優勢。等離子濺射靶為2英寸的標準尺寸,標準配置2個濺射靶頭,以滿足客戶鍍不同膜的實驗需求。儀器所配電源為150W直流高壓電源,可用于金屬濺射鍍膜,尤其適合金銀銅等貴金屬的鍍膜。
產品名稱 |
雙靶等離子濺射鍍膜儀-基礎版 |
產品型號 |
TN-PSP180G-2TA |
主要特點 |
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技術參數 |
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產品規格 |
尺寸:500mm ×320mm × 470mm;重量:30kg;供電電壓:AC220V,50Hz;功率1500W |
1.鍍膜儀配有通氣接口,可通入保護性氣體,若客戶需要通入混合氣體,聯系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。
2.本鍍膜儀標配為雙極旋片真空泵,其具有體積小,抽真空快,操作簡單的優勢,若客戶有進一步提升真空度的需要,聯系技術人員選配分子泵組組成高真空系統。