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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱(chēng)：雙靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)版）

  • 產(chǎn)品型號(hào)：TN-PSP180G-2TA
  • 產(chǎn)品廠商：泰諾
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡(jiǎn)單介紹：
雙靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)版）我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比等離子濺射鍍膜設(shè)備，具有結(jié)構(gòu)緊湊，簡(jiǎn)單易用。雙靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)版）的濺射靶為2英寸的標(biāo)準(zhǔn)尺寸，標(biāo)準(zhǔn)配置2個(gè)濺射靶頭，以滿(mǎn)足客戶(hù)鍍不同膜的實(shí)驗(yàn)需求。
詳情介紹：
TN-PSP180G-2TA 雙靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)版）我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比等離子濺射鍍膜設(shè)備，具有結(jié)構(gòu)緊湊，簡(jiǎn)單易用，集成度高，設(shè)計(jì)感強(qiáng)的優(yōu)勢(shì)。等離子濺射靶為2英寸的標(biāo)準(zhǔn)尺寸，標(biāo)準(zhǔn)配置2個(gè)濺射靶頭，以滿(mǎn)足客戶(hù)鍍不同膜的實(shí)驗(yàn)需求。儀器所配電源為150W直流高壓電源，可用于金屬濺射鍍膜，尤其適合金銀銅等貴金屬的鍍膜。


產(chǎn)品名稱(chēng)
雙靶等離子濺射鍍膜儀-基礎(chǔ)版
產(chǎn)品型號(hào)
TN-PSP180G-2TA
主要特點(diǎn)
  • 自主研發(fā)、高性?xún)r(jià)比
  • 具有結(jié)構(gòu)緊湊，簡(jiǎn)單操作
  • 兩只2英寸標(biāo)準(zhǔn)尺寸等離子濺射靶，
  • 150W直流高壓電源，金屬濺射鍍膜
技術(shù)參數(shù)
  1. 1、樣品臺(tái)：尺寸φ100mm；到靶面的距離20~35mm可調(diào)
  2. 2、直流濺射頭：數(shù)量2” ×2  
  3. 3、真空腔體：尺寸：φ180mm × 210mm、材料高純石英、全向透明、頂蓋拆卸式
  4. 4、真空系統(tǒng)：雙極旋片真空泵 ；抽氣速率：旋片泵：1.1L/S；極限真空：≥0.1Pa
    抽氣/排氣接口：KF16； 真空測(cè)量：電阻規(guī)；
  5. 5、濺射電源配置：直流電源 ×1；  max輸出功率:150W,濺射電壓1200V,*大濺射電流50mA
產(chǎn)品規(guī)格
尺寸：500mm ×320mm × 470mm；重量：30kg；供電電壓：AC220V,50Hz；功率1500W

1.鍍膜儀配有通氣接口，可通入保護(hù)性氣體，若客戶(hù)需要通入混合氣體，聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計(jì)以滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)需要。

2.本鍍膜儀標(biāo)配為雙極旋片真空泵，其具有體積小，抽真空快，操作簡(jiǎn)單的優(yōu)勢(shì)，若客戶(hù)有進(jìn)一步提升真空度的需要，聯(lián)系技術(shù)人員選配分子泵組組成高真空系統(tǒng)。


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